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產(chǎn)品
產(chǎn)品分類
全部分類
熱蒸發(fā)、磁控濺射鍍膜機(jī)
該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。
電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)
該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī),四對電極可單獨(dú)或同時(shí)蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu),四對電極可單獨(dú)或共蒸發(fā),樣品Φ300(max),樣品臺(tái)公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào);流量計(jì)控制氣體流量,滿足離子轟擊壓力要求。
雙腔室四靶磁控濺射鍍膜機(jī)
該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等,用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨(dú)立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預(yù)備室兩個(gè)真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜,完成用戶主要鍍膜工藝過程。預(yù)備室通過高真空插板閥與主腔室相連,可以用于鍍膜前基片與鍍膜后薄膜的等離子清洗,并可以在不破壞主腔室真空的條件下更換基片。
雙腔室多功能磁控濺射鍍膜機(jī)
該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機(jī)為雙腔室,共用高真空系統(tǒng);為避免交叉污染,一個(gè)腔室可實(shí)現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜,另一腔室可實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜。
多靶位立式磁控濺射鍍膜機(jī)
該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,多層膜;主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜(耐磨、防腐、導(dǎo)電膜、絕緣膜等)的研發(fā)和小批生產(chǎn)。
通用磁控濺射鍍膜機(jī)
磁控濺射鍍膜機(jī)是應(yīng)用最廣泛的PVD沉積設(shè)備,可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系??慑兏鞣N硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜和其他化學(xué)反應(yīng)膜,亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實(shí)驗(yàn)室制備光學(xué)膜層,電學(xué),光電膜層及其它功能膜層,以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于大專院校及相關(guān)科研機(jī)構(gòu)。
SBC-2型多功能試樣表面處理機(jī)
應(yīng)用領(lǐng)域:
透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備,理化分析、科學(xué)研究等。
主要功能:
具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能
透射電鏡、離子探針、掃描電鏡、能譜儀分析等樣品制備,理化分析、科學(xué)研究等。
主要功能:
具備離子噴涂、離子濺射、離子清洗、蒸碳等功能
直線式勞埃透鏡鍍制機(jī)
直線式勞埃透鏡鍍制機(jī),是為高能同步輻射光源(HEPS)研發(fā)的高端儀器裝備,用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點(diǎn)是膜層層數(shù)多(數(shù)千層甚至更多)且膜層位置和厚度精度高(總位置平均誤差小于±5nm,每層的厚度誤差小于0.1nm)。為了保證每個(gè)膜層的厚度精度,采用磁控濺射技術(shù)來實(shí)現(xiàn)膜片的制備,其優(yōu)點(diǎn)是,能夠精確控制膜層厚度,重復(fù)性好,薄膜與基片結(jié)合緊密,薄膜純度高、致密性好。
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